半導體產業在全球的競爭越來越激烈，台積電如何保持製程上的領先優勢呢？靠的就是這一味：「奈米微粒監控系統 」。
在你的手機、用的電腦、看的電視、聽的音響內都有半導體晶圓，晶圓的製造過程中，必須藉由多道製程技術，在晶圓上精確的定義出一層層極細微尺寸的圖案。
製造過程中，必須仰賴化學溶液與超純水來清洗過程中所殘留在表面的物質，而化學溶液的潔淨度，影響晶圓品質與良率。
化學溶液、超純水中奈米粒子的大小及數量必須持續、精密的監控，才能維持產品良率，工研院與台積電開發「新世代溶液中奈米微粒監控系統」，將傳統40奈米的粒子量測瓶頸提升至3奈米，一舉解決半導體製程微縮的量測難題，並掌握製程原物料品質，提高良率。
這項技術除了應用在半導體製程之外，其他領域的用途也很廣泛，可以應用在光電製造或生物製藥產業。
