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在半導體濕式製程中，晶圓表面的清洗、蝕刻與研磨皆需仰賴特定化學溶液進行，而溶液中­奈米粒子的尺寸與分佈會影響晶圓電路圖案(pattern)的製程結果，例如清洗過程­奈米粒子的殘留，研磨階段的刮痕。因此溶液中粒子的大小及數量必需被持續監控，只要發­現溶液粒子不符規格，就必需馬上暫停及更換，才能維持產品良率。因此半導體業者需擁有­一雙能真正看得到更小微粒的『新眼睛』，這雙新眼睛就是工研院（ITRI）所研發成功­的「新世代溶液中奈米微粒監控系統」。

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